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加熱制冷控溫系統(tǒng)

簡要描述:加熱制冷控溫系統(tǒng)應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。

  • 產品型號:SUNDI-525W N
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-12-20
  • 訪  問  量:1686
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域食品,化工,能源,制藥,汽車

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



加熱制冷控溫系統(tǒng)

加熱制冷控溫系統(tǒng)

  無錫冠亞射流式加熱制冷裝置廣泛應用于半導體企業(yè)、光通訊、高校、研究所等領域,一般為電子元器件行業(yè)各種測試提供高低溫的環(huán)境,用來比較產品測試前后的材質變化及的減衰程度,射流式加熱制冷裝置專門試驗各種材料耐熱,耐寒的性能。

  射流式加熱制冷裝置試驗各種材料耐熱、耐寒、耐干性能。適合半導體、芯片、元器件等工廠之用。應用于需要快速升/降溫的應用場合,針對PCB板上眾多元器件中的某一單個IC(模塊),將其隔離出來單獨進行高低溫沖擊,而不影響周邊其它器件,對測試機平臺上的IC進行溫度循環(huán)/沖擊,對整塊集成電路板提供準確且快速的環(huán)境溫度。

  對比于傳統(tǒng)的溫箱,射流式加熱制冷裝置溫度范圍廣,升降溫速率非常快速,溫控精度高,溫度顯示能力較大,可以時監(jiān)控被測IC真實溫度,實現(xiàn)閉環(huán)反饋,實時調整氣體溫度;升降溫時間可控,可程序化操作、手動操作、遠程控制。

  射流式加熱制冷裝置應用的集成電路的封裝多種多樣但常見的有金屬外殼陶瓷外殼塑料外殼等有圓型扁平型管腳排列次序一般是從外殼頂部向下看按逆時針方向讀數(shù)其中一腳為標記附近的腳。


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